Untersuchung lokaler Oberflächeneffekte

Neben allgemeinen und integralen Oberflächeneffekten wie der Oberflächensauberkeit ganzer Bauteile für großflächige Lackier-, Klebe- und Beschichtungsprozesse sind oftmals auch lokale Oberflächeneffekte von großem Interesse. Dabei muss die Analyse punktgenau erfolgen, um die Ursache für auffällige Stellen wie Flecken, Beschläge, Verfärbungen, stellenweise Delaminationen oder sonstige optische Effekte zu untersuchen.

Das SGS Institut Fresenius verfügt über zahlreiche Geräte und das entsprechende Know-how zur Analyse von örtlich begrenzten Oberflächeneffekten. Neben der Analyse von unterschiedlichsten optischen Auffälligkeiten verfügen wir durch unsere Nähe zur Mikroelektronik ebenfalls über Erfahrung in der Aufklärung elektrischer Phänomene und unterstützen Sie bei der Untersuchung von Dendriten- und Whisker-Bildung, welche zu Kurzschlüssen und Ausfällen in Chips, Bauteilen und Modulen führen können. Neben einer chemischen Ursache (Verunreinigung) können auch physikalische Effekte wie abweichende Oberflächenrauigkeiten oder Schichtdicken (bei Schichtsystemen) ursächlich sein. Je nach Methode können dabei laterale Auflösungen im Submikrometerbereich erreicht werden und so auch kleinste Fehlerbilder untersucht werden.

Informationen über:

  • Sichtbare, lokal begrenzte Verunreinigungen (Flecken, Partikel, Beläge)
  • Lokal auftretende Effekte bei der Modifikation von Oberflächen (Stellenweise Delamination, Haftprobleme, Benetzungsauffälligkeiten, zum Beispiel stets am Randbereich)
  • Korrosion und Oxidation
  • Löt- und Bondprobleme
  • Kurzschlüsse in elektrischen Systemen (Whiskerwachstum)
  • Ausfälle von Chips durch oberflächliches Dendritenwachstum

Prüfverfahren

  • Elektronenoptische Inspektion mittels REM, sowie Elementanalytik durch EDX
  • Röntgendiffraktometrie (XRD) zur Stoff- und Phasencharakterisierung
  • Identifikation von Substanzen und Partikeln mittels Raman- und FT-IR Spektroskopie und Mikroskopie
  • Lichtoptische Inspektion, Abbildung von Partikelformen
  • Quantitative Materialcharakterisierung durch XPS und AES
  • ToF-SIMS zur hochsensitiven Oberflächencharakterisierung von Organik und Anorganik mit der Möglichkeit hochaufgelöster Mappings
  • AFM und Profilometrie zur Bestimmung und Ausmessung der Oberflächentopographie

Ihr Ansprechpartner

SGS INSTITUT FRESENIUS GmbH
Königsbrücker Landstr. 161
01109 Dresden

t +49 351 8841-200
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